用光电化学的方法研究模拟混凝土孔溶液中缓蚀剂对钢筋钝化膜的影响

腐蚀学报（英文）, 1998, 10(4): 2-6.

用光电化学的方法研究模拟混凝土孔溶液中缓蚀剂对钢筋钝化膜的影响

南京化工大学应用化学系

基金项目: 厦门大学国家表面物理化学重点实验室资助；江苏省自然科学基金

关键词：光电化学 , composite inhibitors , pitting nucleus , rebar passive film , growth rate

STUDY ON THE EFFECT OF INHIBITORS ON PASSIVE FILM OF REBAR BY PHOTOELECTROCHEMICAL METHOD

WANG Ying , SHI Yuanxiang , WEI Baoming (Department of Applied Chemistry , Nanjing University of Chemical Technology , Nanjing 210009) YANG Yong , CHEN Xuguang , CHU Wei

Keywords： photoelectrochemistry , 复合缓蚀剂 , 钢筋钝化膜 , 点蚀核 , 生长速度

采用光电化学的方法研究了复合缓蚀剂对钢筋钝化膜的影响.结果表明复合缓蚀剂的加入没有改变钢筋钝化膜的晶体结构和电子性质,它仍然是无定形n型的半导体成相膜,但对抑制点蚀核的形成有明显作用,且对钝化膜的生长速度有加快作用,从而有可能使钝化膜的组成发生改变.

An in situ photoelectrochemical study was made to compare passive films on rebar formed in simulated concrete pore solution with or without inhibitors. The results indicated that the crystal structure and electron property of passive film were not changed

参考文献

[1]

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