报道了一种新的ZnGeP2晶体择优腐蚀剂及其腐蚀工艺,即先采用研磨、物理机械抛光和HCl+HNO3热化学抛光获得表面平整无划痕的ZnGeP2晶片,然后将晶片在室温下采用HF(40%):HNO3(65%):CH3COOH(99.5%):H2O:I2=2 mL:2 mL:1 mL:1 mL:4 mg腐蚀剂超声振荡腐蚀8 min;在扫描电镜下观察到ZGP(110)和(204)晶面的腐蚀坑,蚀坑形貌清晰,具有立体感,(110)晶面蚀坑呈四边形,(204)晶面蚀坑呈五边形,取向一致,蚀坑密度(EPD)约为104/cm2.从理论上对蚀坑形貌的形成机理进行了分析.
参考文献
[1] | 杨慧光,朱世富,赵北君,赵欣,何知宇,陈宝军,孙永强.两温区气相输运和机械振荡合成ZnGeP2多晶材料[J].人工晶体学报,2008(03):557-560. |
[2] | Yuri A;Pavel G;Elena K .ZnGeP2 Crystal:Applications for Visualization or IR Signals[J].Proceedings of Spie,2004,5397:173-180. |
[3] | S. Haidar;K. Miyamoto;H. Ito .Generation of tunable mid-IR (5.5-9.3 μm) from a 2-μm pumped ZnGeP_(2) optical parametric oscillator[J].Optics Communications: A Journal Devoted to the Rapid Publication of Short Contributions in the Field of Optics and Interaction of Light with Matter,2004(1/3):173-178. |
[4] | 苏旭,刘涛,张刚,陈兴国,秦金贵,陈创天.中红外波段二阶非线性光学晶体材料研究进展[J].无机化学学报,2006(07):1163-1169. |
[5] | Dhar S;Nag B R .Etching Solution for the Determination of the Crystallographic Axes of ZnGeP2[J].Journal of Crystal Growth,1978,43:120-122. |
[6] | 李宇杰,刘晓华,介万奇.红外半导体材料HgMnTe的缺陷腐蚀[J].半导体学报,1999(09):765. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%