温度场对热丝化学气相沉积大面积生长金刚石膜的影响

材料研究学报, 1995, 9(3): 245-249.

温度场对热丝化学气相沉积大面积生长金刚石膜的影响

陈岩 , 黄荣芳 , 闻立时 , 师昌绪

中国科学院全属研究所

中国科学院物理研究所

基金项目: 国家自然科学基金

关键词：气相况积 , null , null

THE INFLUENCES OF TEMPERATURE FIELD ON LARGE AREA DIAMOND GROWTH OF DIAMOND FILM BY HFCVD

CHAN Yan , HUANG Rongfang , WEN Lishi , SHI Chuangxu(Institute of Metal Research

Keywords： : HFCVD. diamond film. temperature field , 金刚石薄膜 , 温度场

用100×100mm大面积加热器进行了气相生长金刚石膜试验,对得到的金刚石膜样品作了拉曼光谱分析,并用扫描电镜观察了不同空间区域中金刚石形核的特点.拉曼光谱和扫描电镜观察的结果,均给出了与温度分布特点较好的对应.本研究的结果,指出厂热丝法大面积气相生长金刚石膜工业应用的可能性.

The large area temperature field was formed through large area planary arrangment of parallel W filament arrangment. and the temperature distribution of temperature field was measured. The results have shown that an uniform temperature region of 70×70mmwi

参考文献

[1]

MatsumotoM．SatoY．KamoM．SetakaN．JApplPhys．1982:21:1832KamoM．SatoY．MatsumotoS．SetakaN．JCrystGrowth．1983:62(3):6423MatsumotoS．JMaterSciLett．1985:4:6004LandstrassMI．RaviKV．ApplPhysLett．1989:55:13915FrenklachM,SpearKE．JMaterRes．1988:3:1336ChenI．JApplPhys,1988:64:37427TsudaM．NakajimaM．Oikawa．JAmChemSoc．1986:108:57808PiekarcaykW．YarbroughWA．JCrustGrowth,1991:108:5839TheComputerSimulationofTheRaditionFieldinHFCVD．Y．Cheneta．,tobepublished10TheInfluencingFactorsofTempratureFieldinHFCVD．Y．Chenetal．,tobepublished|

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