采用离子束溅射沉积技术,对不同氮离子束能量情况下制备的氮化碳薄膜,进行了拉曼(Raman)和红外光谱(FT-IR)分析,并采用透射电子显微镜(TEM)分析其表面形貌,研究所制备薄膜的化学组成和键合结构.结果显示:随着氮离子束能量增大,氮碳薄膜的沉积速率减小,薄膜结构中sp2含量增大,薄膜有序度增加,另外薄膜结构的团簇尺寸大幅下降,团簇趋于均匀分布.
参考文献
| [1] | Zheng WT.;Ivanov I.;Xing KZ.;Broitman E.;Salaneck WR. Greene JE.;Sundgren JE.;Sjostrom H. .REACTIVE MAGNETRON SPUTTER DEPOSITED CNX - EFFECTS OF N-2 PRESSURE AND GROWTH TEMPERATURE ON FILM COMPOSITION, BONDING, AND MICROSTRUCTURE[J].Journal of Vacuum Science & Technology, A. Vacuum, Surfaces, and Films,1996(5):2696-2701. |
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