磁控溅射工艺参数对涤纶机织物基纳米金属薄膜抗静电性能的影响

材料科学与工程学报, 2014, 32(6): 848-852.

磁控溅射工艺参数对涤纶机织物基纳米金属薄膜抗静电性能的影响

袁小红 ^1, , 魏取福 ^2, , 陈东生 ^3, , 徐文正 ^4,

1.江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡214122;闽江学院服装与艺术工程学院,福建福州350121

2.江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡214122

3.闽江学院服装与艺术工程学院,福建福州350121

4.江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡214122

基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2012AA030313),福建省教育厅科技计划资助项目(JA13260)

关键词：磁控溅射 , 涤纶机织物 , 纳米金属薄膜 , 抗静电性能

Influence of Process Parameters on Antistatic Property of Metal Thin Film by Magnetron Sputtering on Polyester Fabric

Keywords： magnetron sputtering , polyester weave fabric , nanoscale metal thin films , antistatic properties

在室温条件下采用磁控溅射技术在涤纶机织物表面沉积金属薄膜,利用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察纳米金属薄膜的表面形貌,通过分别改变磁控溅射工艺参数溅射时间、溅射功率和气体压强,研究其对试样抗静电性能的影响.实验结果表明,溅射时间和溅射功率对镀金属薄膜试样的抗静电性能均影响较大,而气体压强影响相对较小.溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1.6Pa工艺条件下,镀Cu膜试样的抗静电性能最好;溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1Pa或1.6Pa工艺条件下,镀Ag膜试样的抗静电性能最好,而且镀Ag比镀Cu薄膜试样的抗静电性能更优异.

参考文献

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