采用等离子热丝化学气相沉积(PHFCVD)装置进行了金刚石薄膜的制备实验.实验条件为:氢气流量为200sccm,甲烷流量为2~12sccm,基体温度为700~900℃,偏压为0~400V,真空室压力为4kPa.通过实验得出了甲烷含量、基体温度和偏压对沉积金刚石膜的影响,并运用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)等测试方法对金刚石薄膜进行了观察分析.
参考文献
[1] | Jiang X;Willich P;Paul M.[J].Journal of Materials Research,1999(08):1-10. |
[2] | Fryda M;Herrmann D;Schafer L.[J].Diamond and Frotier Carbon Techology:229-239. |
[3] | Wang J;Swain G M;Tachibana T.[J].Journal of New Materials for Electrochemical Systems,2000:75-82. |
[4] | Chailapahul O;Fujishima A;Tiphara O et al.[J].Analytical Sciences,2001,17:419-421. |
[5] | 王必本,王万录,廖克俊.SiC在异质衬底生长金刚石膜的作用分析[J].真空科学与技术学报,2000(03):187. |
[6] | 李建国;刘实;李依依.[J].真空科学与技术,2002(01):53-57. |
[7] | Dischler D.Low pressure Synthetic Diamond Manufacturing and Applications[M].Berlin:Springer-verlag,1998 |
[8] | 毕京锋;石玉龙;付强 .[P].CN 03253716.6 |
[9] | 毕京锋,石玉龙.等离子体辅助热丝化学气相沉积金刚石膜[J].青岛科技大学学报(自然科学版),2004(01):36-38. |
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