采用低温磁控溅射技术在涤纶纺粘非织造布表面沉积ITO(Indium Tin Oxide,铟锡氧化物)薄膜,利用原子力显微镜(AFM)观察ITO纳米薄膜在纤维表面沉积的微观结构,并较为系统地分析了溅射时间、溅射功率、氧气流量、气体压力以及基底温度对ITO透明导电薄膜微结构的影响.得到以下结论:沉积时间的长短、工作气体压力的大小对成膜的均匀性有很大影响;较高的射频溅射功率将导致纳米颗粒因团聚而增大;而氧气流量的大小则影响着颗粒结晶程度的好坏和晶粒尺寸的大小;基底温度升高则会导致颗粒产生热迁移现象.
参考文献
| [1] | 李世涛,乔学亮,陈建国,王洪水,贾芳.磁控溅射制备增透ITO薄膜及其性能研究[J].光电工程,2005(11):20-24. |
| [2] | 李家亮,姜洪义,牛金叶,邹科.透明导电氧化物薄膜的研究现状及展望[J].现代技术陶瓷,2006(01):19-23. |
| [3] | Seung-Ik Jum;Timothy E Mcknight;Michael L Simpson et al.A statistical parameter study of indium tin oxide thin films deposited by radio-frequency soputtering[J].Thin Solid Films,2005,476(01):59. |
| [4] | Ja Eun Song et al.Preparation of indium tin oxide nanoparticles and their application to near IR-reflective film[J].Current Applied Physics,2006,6(04):791. |
| [5] | 辛荣生,林钰.工艺条件对直流磁控溅射沉积ITO薄膜光电特性的影响[J].稀有金属,2005(06):931-933. |
| [6] | 杨田林,韩圣浩,高绪团.溅射氩分压对ITO透明导电薄膜光电特性的影响[J].光电子技术,2003(02):78-82. |
| [7] | 马瑾,赵俊卿,叶丽娜.柔性衬底ITO导电膜的低温制备及特性研究[J].半导体光电,2000(01):46-49. |
| [8] | 夏冬林,杨晟,王树林,赵修建.ITO薄膜直流反应磁控溅射制备及性能研究[J].材料导报,2005(11):113-114,117. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%