通过对HfO2膜料中杂质元素的分析,找出了影响薄膜性能的主要杂质元素.结果表明:金属元素、吸收性介质元素的存在对薄膜的损毁有很大负面影响;在紫外波段,Zr元素含量大的薄膜吸收较大;并且提出负离子元素在膜料蒸发过程中形成气源中心,产生喷溅,从而使薄膜的损伤阈值降低.
参考文献
[1] | Lehan J P;Mao Y;Bovard B G et al.[J].Thin Solid Films,1991,203(1-3):227. |
[2] | Fournet C;Pinot B;Geenen B et al.[J].Proceedings of SPIE,1992,1624:282. |
[3] | Hopper R W;Uhlmann D R .[J].Journal of Applied Physiology,1970,41(10):4023. |
[4] | Thomas W Walker;Arthur H Guenther et al.[J].Theory IEEE J Quantum Electron,1981,17(10):2053. |
[5] | Rainer F;Lowdermilk W H;Milam D et al.[J].Applied Optics,1985,24(04):496. |
[6] | 袁景梅,范瑞瑛,杨健,邵建达,范正修.HfO2中ZrO2含量对266nm HfO2/SiO2多层膜反射率的影响[J].光学学报,2004(06):747-750. |
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