基于原子层沉积的Al2O3薄膜微观形貌研究

稀有金属材料与工程, 2015, 44(12): 3078-3082.

基于原子层沉积的Al2O3薄膜微观形貌研究

王琛英 ^1, , 杨树明 ^2, , 李常胜 ^3, , 景蔚萱 ^4, , 林启敬 ^5, , 蒋庄德 ^6, , 张易军 ^7,

1.西安交通大学,陕西西安,710049

2.西安交通大学,陕西西安,710049

3.西安交通大学,陕西西安,710049

4.西安交通大学,陕西西安,710049

5.西安交通大学,陕西西安,710049

6.西安交通大学,陕西西安,710049

7.西安交通大学,陕西西安,710049

基金项目: “111”引智计划(B12016) 新世纪优秀人才支持计划(93JXDW02000006) 长江学者和创新团队发展计划(IRT1033) 中央高校基本科研业务费专项资金(xjj20100063,2011jdgz09,2011jdhz23,xjj2011068) 国家自然科学基金资助(51175418,91323303)

关键词：原子层淀积 , Al2O3 , 多重分形

Morphology of Al2O3 Film Fabricated by Atomic Layer Deposition

Keywords： atomic layer deposition (ALD) , Al2O3 , multifractal

研究利用原子层沉积获得的小于10 nm Al2O3薄膜表面形貌特点.采用该技术获得4和8 nm的Al2O3薄膜,利用原子力扫描电镜(AFM)和扫描电镜(SEM)对薄膜表面形貌进行测量,通过最小二乘法和多重分形研究薄膜表面形貌,分析得出利用原子层沉积技术加工超薄Al2O3薄膜,其形貌与成膜原理有关,与厚度无关.

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基于原子层沉积的Al2O3薄膜微观形貌研究

Morphology of Al2O3 Film Fabricated by Atomic Layer Deposition

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