采用阳极线性离子源辅助磁控溅射技术,通过改变氮气流量以及离子源功率,在低温(150℃)条件下以不锈钢为基体制备了氮化钛薄膜.采用X射线衍射技术、显微硬度计、球盘式摩擦磨损仪、压痕法研究了薄膜的结构、硬度、耐磨性和结合强度,结果表明,采用阳极线性离子源辅助磁控溅射法在150℃低温条件下能制备出具有良好特性的金黄色的氮化钛薄膜.当氮气流量为20sccm、离子源功率为300W时,制备的薄膜硬度达到2039HV,且薄膜的耐磨性与结合强度最佳.离子的轰击作用使薄膜的力学性能得到了较大改善.
参考文献
| [1] | 何玉定,胡社军,谢光荣.TiN涂层应用及研究进展[J].广东工业大学学报,2005(02):31-36. |
| [2] | 王淑涛,张祖德.化学气相沉积法制备氮化钛[J].化学进展,2003(05):374-378. |
| [3] | 胡树兵,李志章,梅志.物理气相沉积TiN复合涂层研究进展[J].材料科学与工程,2000(02):110. |
| [4] | 刘晓红,陈志勇,邓山江.气相沉积技术的现状与发展[J].华北航天工业学院学报,2006(03):26-28. |
| [5] | Wan G T Y;Spikes H A .The behavior of suspended solid particles in rolling and sliding elastohydrodynamic contacts[J].Tribology Transactions,1988,31(01):12. |
| [6] | Lee JJ.;Joo J. .Application of inductively coupled plasma to super-hard and decorative coatings[J].Surface & Coatings Technology,2003(0):353-358. |
| [7] | 董骐,罗蓉平,张守忠,杜建,钟钢,田凯,文学春,刘祥武.气离溅射离子镀制氮化钛[J].真空科学与技术学报,2005(01):69-74. |
| [8] | 王庆喜,弥谦,惠迎雪.氮气流量对UBMS制备TiN薄膜结构和力学性能的影响[J].材料导报,2008(z1):66-68,71. |
| [9] | 黄佳木,徐成俊,张兴元,王亚平.室温直流磁控溅射氮化钛薄膜研究[J].真空科学与技术学报,2005(04):297-300. |
| [10] | Wang Y K;Li X Y et al.The influence of the Ti intermediate layer on TiN coated on an iron substrate by plasme-enhanced magnetron sputtering ion plating[J].Surface and Coatings Technology,1996,81:157. |
| [11] | 郭丽萍;黄荣芳;闻立时 et al.Ti-N薄膜/钢基界面的若干微观特征[J].薄膜科学与技术,1993,6(03):179. |
| [12] | 沟引宁,孙鸿,黄楠,张文英,冷永祥.磁过滤真空弧源沉积技术制备C/C多层类金刚石膜及其摩擦磨损性能研究[J].摩擦学学报,2006(02):121-124. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%