磁控溅射CrNx薄膜的制备与力学性能

功能材料, 2002, 33(5): 500-502.

磁控溅射CrNx薄膜的制备与力学性能

韩增虎 ^1, , 田家万 ^2, , 戴嘉维 ^3, , 张慧娟 ^4, , 李戈扬 ^5,

1.上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030

2.上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030

3.上海交通大学,教育部高温材料与高温测试重点实验室,上海,200030

4.上海交通大学,教育部高温材料与高温测试重点实验室,上海,200030

5.上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030

关键词：磁控溅射 , CrNr薄膜 , 氮分压 , 力学性能

Preparation and mechanical properties of magnetron sputtered CrNx thin films

采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列CrNr薄膜,并利用EDS和XRD表征了薄膜的成分和相组成,采用力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量.研究了氮分压对薄膜成分、相组成和力学性能的影响.结果表明,随氮分压的升高,薄膜的沉积速率明显降低;薄膜中的氮含量增加,相应地,相组成从Cr+Cr2N过渡到单相Cr2N,再逐步经Cr2N+CrN过渡到单相CrN.并在Cr:N原子比为1:2和1:1时,薄膜的硬度出现极值(HV27.1GPa和HV26.8GPa),而薄膜的弹性模量则在Cr2N时呈现350GPa的最高值.

参考文献

[1]	Fan B W;Jeng J L;Jeng G D .[J].Thin Solid Films,2000,377-378:354-359.
[2]	Cunha L;Andritschky M;Pischow K et al.[J].Thin Solid Films,1999,355-356:465-471.
[3]	Günter B;Christoph F;Erhard B et al.[J].Surface and Coatings Technology,1996,86-87:184-191.
[4]	Knotek O;Bosch W;Atzor M .[J].High Temperature and High Pressure,1986,18:435-442.
[5]	DubielD .[J].Prakt Met,1989,26:68-82.
[6]	Bertrand G;Savall C;Meunier C;Lab Phys & Metrol Oscillateurs Equipe Elect Solides UPR 3203 F-25200 Montbeliard France. .Properties of reactively RF magnetron-sputtered chromium nitride coatings[J].Surface & Coatings Technology,1997(2/3):323-329.
[7]	Djouadi M A;Nouveau C;Beer P et al.[J].Surface and Coatings Technology,2000,133-134:478-483.
[8]	Ensinger W;Kiuchi M .[J].Surface and Coatings Technology,1996,84:425-428.
[9]	Hurkmans T;Lewis D B;Paritong H et al.[J].Surface and Coatings Technology,1999,114:52-59.
[10]	韩增虎,张俊秋,劳技军,李戈扬.材料力学性能的微压入测试方法[J].理化检验-物理分册,2001(08):338-341,353.
[11]	Oliver W C;Pharr G M .[J].Journal of Materials Research,1992,7(06):1564-1580.
[12]	田民波;刘德令.薄膜科学与技术手册[M].北京:机械工业出版社,1991

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%

材料期刊网

磁控溅射CrNx薄膜的制备与力学性能

Preparation and mechanical properties of magnetron sputtered CrNx thin films

参考文献