电解液微弧氮化工艺简单，过去未见用其制备AlN膜的报道。采用电解液微弧氮化工艺在纯铝基片上制备了AlN陶瓷膜，利用正交试验优化工艺，研究了最优工艺制备的膜层的物相、形貌，并探讨了占空比、放电频率对膜层硬度、绝缘电阻、耐压值的影响。结果表明：正交试验优化的工艺为100mL超纯水中CO（NH2）235．0g，EDTA-2Na3．0g，放电频率1．0kHz，占空比20％；各因素的影响由主到次依次为CO（NH2）2浓度、占空比、放电频率、EDTA-2Na浓度；最优工艺制备的陶瓷膜由多晶AIN组成，膜层致密；选择适当的占空比和放电频率有利于改善AlN陶瓷膜的性能。
参考文献
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