为提高甲基磺酸盐体系镀锡的质量,在甲基磺酸亚锡镀液中加入自主研发的亚光添加剂进行电镀亚光锡,采用电化学试验、Hull槽试验、扫描电镜等考察了温度和搅拌对甲基磺酸盐体系电镀亚光锡的阴极极化行为、镀层形貌、电流密度范围、沉积效率、沉积速度及镀液成分的影响。结果表明:亚光添加剂能够显著提高电镀亚光锡的阴极过电位、改善镀层质量;搅拌镀液可使浓差极化减小,增大了电镀亚光锡的电流密度范围;镀液温度升高,锡沉积电位正移,晶粒变粗,电流密度范围、电流效率和锡沉积速度均有所提高;温度过高(40-50℃)时,随着电镀时间的延长,镀液中sn。’浓度升高,甲基磺酸浓度下降,镀液成分变化较大,不利于镀液维护及连续生产。
参考文献
[1] | 刘毅强,贺东平,张昭.新型镀锡添加剂的研制与开发[J].电镀与精饰,1999(03):13-15. |
[2] | 清华大学 .一种用于甲磺酸铅、锡电镀液的光亮整平剂:中国,1224083[P].中国,1224083,1999-07-28. |
[3] | 叶晓燕,李立清.甲基磺酸盐电镀锡工艺及镀液性能[J].腐蚀与防护,2007(08):422-424. |
[4] | Heber J;Egli A;Toben M P et al.Tin plating:US,20020187364[P].US,20020187364,2002-12-12. |
[5] | Nicholas M. Martyak;Robert Seefeldt .Additive-effects during plating in acid tin methanesulfonate electrolytes[J].Electrochimica Acta,2004(25):4303-4311. |
[6] | Suh MS;Park CJ;Kwon HS .Effects of plating parameters on alloy composition and microstructure of Sn-Bi electrodeposits from methane sulphonate bath[J].Surface & Coatings Technology,2006(11):3527-3532. |
[7] | Fang M;Dubin V M;Haight S M .Tin deposition:US,7314543[P].US,7314543,2008-01-01. |
[8] | Low CTJ;Walsh FC .Electrodeposition of tin, copper and tin-copper alloys from a methanesulfonic acid electrolyte containing a perfluorinated cationic surfactant[J].Surface & Coatings Technology,2008(8):1339-1349. |
[9] | 李峰,王泉.重铬酸钾滴定法测定甲基磺酸锡中Sn2+和Sn4+的含量[J].应用化工,2003(04):51-53. |
[10] | 刘祖武,李伟国.甲基磺酸容量分析方法研究[J].湘潭大学自然科学学报,1998(03):94-98. |
[11] | 周绍民.金属电沉积--原理与研究方法[M].上海:上海科学技术出版社,1987:180. |
[12] | 方景礼.电镀添加剂理论与应用[M].北京:国防工业出版社,2007:226-230. |
[13] | 何柱生.高纯度甲基磺酸亚锡生产新工艺[J].化工进展,2002(08):589-591. |
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