欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

采用微波光电导衰减法(μ-PCD)、扫描电镜等测试技术,研究了快速热处理(RTP)对铸造多晶硅片表面缺陷形貌以及少子寿命特性的影响.结果表明:铸造多晶硅片经低中温(750、850和950℃)RTP时,硅片的少子寿命明显降低,其中在950℃、保温30s时硅片的少子寿命下降幅度最大;当硅片经高温1050℃ RTP时,硅片的少子寿命急剧增大,最大幅度达到初始寿命值的4.3倍.另一方面,保温时间对硅片少子寿命也有很大影响,一定RTP温度下,随着保温时间的增加,硅片的少子寿命逐渐增大.

参考文献

[1] Karg D.;Schulz M.;Hassler C.;Koch W.;Pensl G. .Oxygen-related defect centers in solar-grade, multicrystalline silicon. A reservoir of lifetime killers[J].Physica status solidi, B. Basic research,2000(1):379-387.
[2] 任丙彦,勾宪芳,马丽芬,励旭东,许颖,王文静.热退火对多晶硅特性的影响[J].半导体学报,2005(12):2294-2297.
[3] 席珍强,楼峰,俞征峰,杨德仁.铸造多晶硅中氧的热处理行为研究[J].材料热处理学报,2004(06):8-11.
[4] 裴艳丽,杨德仁,马向阳,樊瑞新,阙端麟.高温快速热处理对硅中热施主的影响[J].半导体学报,2003(10):1035-1039.
[5] 邓海,杨德仁,唐骏,席珍强,阙端麟.铸造多晶硅中杂质对少子寿命的影响[J].太阳能学报,2007(02):151-154.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%