运用电子背散射衍射技术研究高纯金溅射靶材的微观组织与织构

有色金属工程, 2016, 6(1): 5-8. doi: 10.3969/j.issn.2095-1744.2016.01.002

运用电子背散射衍射技术研究高纯金溅射靶材的微观组织与织构

朱勇 ^1, , 阳岸恒 ^2, , 张济祥 ^3, , 谢宏潮 ^4, , 卢绍平 ^5,

1.贵研铂业股份有限公司,昆明,650106

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基金项目: “十二五”国家科技支撑计划项目(2012BAE06B05)

关键词：高纯金 , 溅射靶材 , 电子背散射衍射 , 取向差 , 织构

Microstructureand Texture Investigation of Sputtering Target Materials of High Purity Gold by EBSD

Keywords： high-purity gold , sputtering target , electron backscatter diffraction , misorientation , texture

电子背散射衍射(EBSD)技术是分析高纯金靶材微观组织的有效手段,可以快速高效地定量统计材料的微观组织结构、织构、晶粒尺寸、取向差.运用电子背散射衍射技术,研究通过优化真空熔炼工艺制备的高纯金溅射靶材不同区域的微观组织、晶界取向差和织构.结果表明,高纯金靶材组织由细小的等轴晶组成,平均晶粒尺寸为206 nm,样品在轧制过程中发生再结晶,样品所测得的织构(110)平行于轧面,轧向不确定,为较弱的织构.

参考文献

[1]	何金江;陈明;朱晓光;罗俊锋;尚再艳;贺昕;熊晓东.高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术[J].贵金属,2013(z1):79-83.
[2]	张勤;张俊凯;厉英.磁控溅射金基合金靶材的制备、应用及发展趋势[J].材料导报,2014(5):16-19.
[3]	杨平.电子背散射衍射技术、几何晶体学与材料科学[J].电子显微学报,2008(06):425-431.
[4]	陈绍楷;李晴宇;苗壮;许飞.电子背散射衍射（EBSD）及其在材料研究中的应用[J].稀有金属材料与工程,2006(3):500-504.
[5]	刘庆.电子背散射衍射技术及其在材料科学中的应用[J].中国体视学与图像分析,2005(04):205-210.
[6]	郭宁;黄天林;周正;栾佰峰;刘庆.EBSD技术结合背散射电子成像在材料研究中的应用[J].电子显微学报,2010(1):75-79.
[7]	王疆 .电子背散射衍射（EBSD）技术在材料领域的应用[D].浙江大学,2006.

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