对磷硅镉(CdSiP2)单晶生长过程中发生爆炸的原因进行了分析,设计出新型的逐层减压坩埚.通过在内外层坩埚之间的空腔内加入适量CdSiP2粉末产生的蒸气压,平衡和降低了晶体生长过程中坩埚内壁承受的压力,实现逐层减压,从而减小了内层坩埚形变,降低了生长容器爆炸的几率.同时,改进了布里奇曼生长法的降温工艺,生长出尺寸达φ14 mm×32mm的CdSiP2单晶体.X射线分析表明单晶衍射面为(204)晶面,回摆峰半峰宽值为0.434,衍射谱峰强度高,具有良好的对称性;晶体在1500~7500 cm-1波数范围的红外透过率达55%,吸收系数为0.10 ~0.17 cm-1,电阻率1.3×107 Ω·cm.
参考文献
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[3] | 杨辉,朱世富,赵北君,陈宝军,何知宇,樊龙,刘光耀,王小元.CdSiP2多晶合成的热力学研究[J].人工晶体学报,2012(01):11-14,19. |
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[5] | 磷硅镉多晶合成的防爆工艺研究[J].人工晶体学报,2012(06):1483-1487. |
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