电沉积AlxGa1-xAs薄膜及性能研究

1.哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001

2.哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001

3.哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001

Study on co-electrodeposition of tri-compound AlxGa1-xAs films

利用电共沉积技术,在简单盐和带有络合剂的盐酸溶液中,制备了AlxGa1-xAs三元化合物薄膜.用能谱分析仪测量了薄膜成分,分析结果表明,该膜为符合化学计量比的三元化合物AlxGa1-xAs半导体材料,用分光光度计对膜进行测量,在较宽光波波段获得一定的透射率.

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