YBCO外延薄膜的 afterglow plasma溅射生长

功能材料与器件学报 , 2001, 7(4): 389-392. doi: 10.3969/j.issn.1007-4252.2001.04.013

YBCO外延薄膜的 afterglow plasma溅射生长

刘兴钊 ^1, , 李言荣 ^2, , 陶伯万 ^3, , 罗安 ^4,

1.电子科技大学信息材料工程学院,

2.电子科技大学信息材料工程学院,

3.电子科技大学信息材料工程学院,

4.电子科技大学信息材料工程学院,

关键词：溅射 , 薄膜 , YBCO , 高温超导

YBCO thin film growth by afterglow plasma sputtering

Y1Ba2Cu3O7-δ (YBCO)高温超导薄膜溅射生长所遇到的主要问题是负氧离子的反溅射效应 . 采用 afterglow plasma溅射生长 YBCO薄膜,有效地抑制了负氧离子的反溅射效应,从而生长出了超导性质优异的YBCO单晶薄膜,薄膜的临界电流密度JC(77K,0T)=7.6×106A/cm2,薄膜的微波表面电阻Rs(77K,10GHz)=206 μΩ,薄膜(005)峰摇摆曲线半高宽(FWHM)为0.120.

参考文献

[1]	HEIN M A .[J].IEEE Transactions on Applied Superconductivity,1997,7:1246.
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[9]	VOSSEN J V;KERN W.Thin Film Process[M].Academic Press Inc,1991

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