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利用RDS测试系统,可以在近垂直入射条件下,测量出样品的反射系数在样品平面内两个互相垂直的方向上的细微差异,即所谓平面内光学各向异性.它对研究半导体材料及其量子阱超晶格等低维结构中的平面内光学各向异性、半导体表面重构和对外延生长过程中的实时监控都具有重要作用.本系统已为研究工作提供了大量数据.

参考文献

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