采用溶胶-凝胶法以铟、锡氯化物为前驱物制备不同热处理温度下的ITO膜,对制备的ITO膜样品进行X射线衍射分析.研究表明热处理温度对ITO膜的衍射峰相对强度、晶粒尺寸和晶格常数有较大的影响,随着热处理温度的增加,ITO膜随机取向增加,晶粒增大,晶格常数在400 ℃时畸变最小.热处理温度为450 ℃时ITO膜的择优取向较弱,晶粒较大,晶格畸变较小,ITO膜的方阻最小.
参考文献
[1] | 张树高,黄伯云,方勋华.ITO薄膜的半导化机理、用途和制备方法[J].材料导报,1997,11 (4):11-14. |
[2] | Biai I,Quintela M,Mendes L, et al. Performances exhibited by large area ITO layers produced by R.F.magnetron sputtering[J].Thin Solid Films,1999,337(1-2):171-175. |
[3] | Noda Kazuhiro,Sato Hirotoshi,Itaty Hisao, et al. Characterization of Sn-doped In2O3 film on roll-to-roll flexible plastic substrate prepared by DC magnetron sputtering[J].Jpn. J. Appl. Phys.,2003,42(1):217-222. |
[4] | 王刚,刘宏宇,赵超,等.低阻高透过率ITO薄膜的制备与性能[J].液晶与显示,1999, 14(1):23-27. |
[5] | 杨田林,高绪团,韩圣浩.溅射偏压对柔性衬底ITO 薄膜结构和光电特性的影响[J]. 电子元件与材料,2003,22(7):6-10. |
[6] | Lau S,Kaiser N,Zoller A,et al.Room-temperature deposition of indium tin oxide thin films with plasm aion-assisted evaporation[J].Thin Solid Films,1998,335(1-2):1-5. |
[7] | 逄茂林,林君,于敏,等.发光薄膜的制备及应用[J].液晶与显示,2002,17(5):372-280. |
[8] | 马颖,张方辉,牟强.ITO膜透明导电玻璃的特性、制备和应用[J].陕西科技大学学报,2003,21(4):106-109. |
[9] | 马颖,张方辉,靳宝安,等.ITO透明导电薄膜的制备及光电特性研究[J].液晶与显示,2004,19(5):376-379. |
[10] | 周引穗,王俊,杨晓东,等.透光导电IT0膜的制备及其光电特性的研究[J].光子学报,2002,31(9):1077-1080. |
[11] | 范志新,孙以材,陈玖琳.氧化物半导体透明导电薄膜的最佳掺杂含量理论计算[J].半导体学报,2001,22(11):1382-1386. |
[12] | 周静,刘静.X射线分析温度对ITO膜结构与电性能的影响[J].武汉理工大学学报,2001, 23(9):1-3. |
[13] | 赵俊卿,马瑾,李淑英,等.有机薄膜衬底ITO透明导电膜的结构和光电特性[J].半导体学报,1998, 19(10):752-755. |
[14] | Vink T J,Walrave W,Daams J L C, et al. On the homogeneity of sputter-deposited ITO films(Part Ⅰ)[J].Thin Solids Films,1995,266(2):145-148. |
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