TFT阵列金属电极的制备与性能

1.北方液晶工程研究开发中心，吉林长春 130021

2.北方液晶工程研究开发中心，吉林长春 130021

3.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，吉林长春 130021

4.北方液晶工程研究开发中心，吉林长春 130021

5.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，吉林长春 130021

6.北方液晶工程研究开发中心，吉林长春 130021

基金项目: 中国科学院科技攻关项目(KY951-A1-502) 吉林省科技攻关项目(970103-01)

Preparation and Characterization of Metal Films in TFT Array

利用磁控溅射的方法制备了Cr、 Ta、 Al、 Mo、 MoW等金属薄膜，采用XRD、 SEM、四探针法等分析手段分析了薄膜的性能。讨论了衬底温度、反应气压、溅射功率、气体流量等因素对薄膜质量的影响，得到了制作TFT器件中优质金属电极的工艺参数。

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