磁控溅射Fe-N单层膜的研究

金属功能材料, 2000, 7(3): 27-31. doi: 10.3969/j.issn.1005-8192.2000.03.007

磁控溅射Fe-N单层膜的研究

周剑平 ^1, , 李华飚 ^2, , 乔祎 ^3, , 张永平 ^4, , 顾有松 ^5, , 常香荣 ^6, , 赵春生 ^7, , 田中卓 ^8,

1.北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083

2.北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083

3.北京科技大学国家新金属材料重点实验室,北京,100083

4.北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083

5.北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083

6.北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083

7.北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083

8.北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083

基金项目: 中国科学院资助项目

关键词：饱和磁化强度 , 矫顽力 , 磁控溅射 , Fe-N膜

Study on Fe-N Films Deposited by DC-Magnetron Sputtering

本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射,氮流量对Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.实验表明,基片温度为200℃有助于提高Fe-N薄膜的软磁性能.基片为室温和100℃,氮流量在0～2sccm范围内变化时,未发现γ＇-Fe4N和α″-Fe16N2,薄膜中只有N在α-Fe中的固溶体.基片温度200℃,氮流量大于1.0sccm时,薄膜中出现γ′-Fe4N,但仍未发现α″-Fe16N2,加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁.当氮流量是1.0sccm,温度200℃时,矫顽力达到最小值,Hc＝306.6A/m.当氮流量是0.5sccm,温度是200℃时,饱和磁化强度达到4πMs＝2.3T.

参考文献

[1]	Kim T K;Takahashi M .[J].Applied Physics Letters,1972,20:492.
[2]	Sugita Y;Mitsuoka K .[J].Journal of Applied Physics,1991,70:5977.
[3]	Takeshi Ohgai;Ryuichiro Shimono;Hideyuki Saitoh;Yasunori Hayashi .[J].Materials Transactions,1990,6:503.
[4]	Wang S;Kryder M H .[J].Journal of Applied Physics,1990,67:5134.
[5]	Peng Dongliang .Kenji Sumiyama and Kenji Suzuki[J].Journal of Alloys and Compounds,1997,255:50.
[6]	Ding Xingzhao;Zhang Fumin .[J].Surface and Coatings Technology,1997,91:215.
[7]	Toshiliko NAGASE;Kazuo SHIKI .[J].Japanese Journal of Applied Physics,1998,37:279.
[8]	Alben R;Becker J J;Chi M C .[J].Journal of Applied Physics,1978,3:1653.
[9]	宛得福;马兴隆.磁性物理学[M].成都:电子科技大学出版社,1994:57-63.

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