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讨论了在采用离子镀获得Al_2O_3与TiO_2混合涂层工艺过程中,真空度、基片偏压、电子枪功率等主要工艺参数对涂层性能的影响。

参考文献

[1] 钱苗根.材料表面技术及其应用手册[M].北京:机械工业出版社,1998
[2] 王福贞;闻立时.真空沉积技术[M].北京:机械工业出版社,1989
[3] 姚德超.粉末冶金实验技术[M].北京:冶金工业出版社,1988
[4] 殷声.现代陶瓷及其应用[M].北京:中国科学技术出版社,1990
[5] 李云奇.真空镀膜技术与设备[M].沈阳:东北工学院出版社,1972
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