讨论了在采用离子镀获得Al_2O_3与TiO_2混合涂层工艺过程中,真空度、基片偏压、电子枪功率等主要工艺参数对涂层性能的影响。
参考文献
[1] | 钱苗根.材料表面技术及其应用手册[M].北京:机械工业出版社,1998 |
[2] | 王福贞;闻立时.真空沉积技术[M].北京:机械工业出版社,1989 |
[3] | 姚德超.粉末冶金实验技术[M].北京:冶金工业出版社,1988 |
[4] | 殷声.现代陶瓷及其应用[M].北京:中国科学技术出版社,1990 |
[5] | 李云奇.真空镀膜技术与设备[M].沈阳:东北工学院出版社,1972 |
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