多弧离子镀Ti-W-N多元多层膜的研究

材料科学与工艺, 2000, 8(3): 37-40. doi: 10.3969/j.issn.1005-0299.2000.03.009

多弧离子镀Ti-W-N多元多层膜的研究

曾鹏 ^1, , 胡社军 ^2, , 谢光荣 ^3, , 黄拿灿 ^4, , 吴起白 ^5,

1.广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643

2.广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643

3.广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643

4.广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643

5.广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643

基金项目: 广东省高教厅科研项目(970032) 国家重点实验室基金(960011)

关键词：多弧离子镀 , Ti-W-N多元膜 , 多层膜 , 组织与性能

Multi-element-layer Ti-W-N films deposited by ultiarc ion plating

采用Ti/W复合靶,用多弧离子镀技术沉积了Ti-W -N多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究.结果表明:在本试验条件下多元膜的结构形式为(Ti, W)2N,最佳多层膜的结构形式为基体/Ti/TiN/(TiyW1-y )N/(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和极低的孔隙率,在800 ℃具有很好的抗氧化性能.在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.

参考文献

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