成功制备了多弧离子镀TiAlN/Ti多元复合涂层的截面透射试样,并分别用TEM和EDS等手段研究了涂层的组织结构和界面结构.结果表明,多晶(Ti,Al)N相是TiAlN的主要组成相,过渡Ti层呈现多晶α-Ti结构.研究发现,在TiAlN-Ti过渡层界面、Ti过渡层-HSS基体界面分别存在一个薄的中间层,通过衍射和EDS分析认为前者是Ti 2AlN相,而后者则是FeTi界面相,用XTEM还观察到FeTi相与基体M'之间的位相关系.
参考文献
| [1] | Sundgren J E .Structure and Properties of TiN Coatings[J].THIN SOLID FILMS,1985,128:21-44. |
| [2] | Hakansson G;Sundgren J E et al.Microstructure and Properties of Polycrystalline Metastable Ti0. 5Al0. 5N Alloys Grown by D. C. Magnetron Sputter Deposition[J].Thin Solid Films,1987,153:55-65. |
| [3] | 王玉魁.等离子体增强磁控溅射离子镀TiN涂层的研究[J].真空,1996(01):24. |
| [4] | Tomislov Gredic Miodrag Zlatanovic .Plasma Deposition of (Ti,Al)N Coating at Various Magnetron Discharge Power Levels[J].Surface and Coatings Technology,1991,48:25-30. |
| [5] | Wen L S;Jiang X et al.A Transmission Electron Microscopy Study on TiN Films Deposited by Ion Plating[J].Journal of Vacuum Science and Technology,1986,A4(06):2682-2685. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%