以硫酸钴为主盐、硼氢化钠为还原剂制备了Co-B合金功能膜.主盐及还原剂的质量浓度增大都会加快沉积速率,但当两者超过一定值时,沉积速率反而下降.pH的增大和温度的升高也会加快沉积速率,而配位剂(酒石酸钠)质量浓度的增大,则会降低沉积速率.X射线衍射实验结果表明,化学镀Co-B合金在镀态下是非晶态.温度升高、主盐质量浓度增大及配位剂质量浓度减小都使镀层有形成晶态的趋势.原子力显微镜(AFM)照片显示:镀层表面由球状突起颗粒构成,颗粒尺寸为0.6～2 μm.
参考文献
| [1] | CHANG Y H;LIN C C;HUNG M P et al.The microstructure and magnetic properties of electroless-plated Co-B thin films[J].Journal of the Electrochemical Society,1986,133(05):985-988. |
| [2] | OSAKA T;HOMMA T;SAITO K et al.Co-based soft magnetic films produced by electroless deposition[J].Journal of the Electrochemical Society,1992,139(05):1311-1313. |
| [3] | 宣天鹏;郑晓桦;邓宗钢 .化学镀Co-B合金工艺及结构研究[J].电镀与环保,1997,17(02):9-11. |
| [4] | 邓波,吴玉程,张勇,杨晔,李广海.钴硼合金化学镀工艺及其性能研究（Ⅰ）[J].电镀与涂饰,2001(01):12-15. |
| [5] | 宣天鹏,郑晓华,刘玉.化学镀Co-B合金层磁性的研究[J].兵器材料科学与工程,1999(01):34. |
| [6] | 郑晓华,马晓春,宣天鹏.热处理对化学镀钴硼合金结构和磁学性能的影响[J].浙江工业大学学报,2000(02):104. |
| [7] | 张邦维;胡望宇;王玲玲 等.施镀工艺参数对化学镀沉积速率的影响[J].电镀与环保,1999,19(05):15-22. |
| [8] | NARCUS H .An introduction to chemical nickel plating with sodium borohydride or amine boranes as reducing agents[J].Plating,1967,54:380-381. |
| [9] | 张忠诚.水溶液沉积技术[M].北京:清华大学出版社,1997 |
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