介绍了目前常用的两种铜及铜合金化学抛光体系--硝酸及其盐系列和过氧化氢系列的工艺配方.对硝酸及其盐系列中的3种体系(包括HNO3-H2SO4-HCl体系及其改性体系和HNO3-H3PO4-CH3COOH体系)的铜及铜合金化学抛光工艺进行了研究,指出了体系中各组分(包括硝酸、硝酸盐、硫酸、光亮剂(含缓蚀剂和表面活性剂))的作用.同时介绍了过氧化氢系列化学抛光工艺流程,提出了其配方(1)的使用注意事项.
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