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向Co-Ni-B合金镀液中加入了稀土La.以沉积速度为评价标准,通过正交试验得到其适宜的镀液基础配方为:10~13 g/L CoCl2 * 6H2O,2.3~4.9 g/L NiCl2 * 6H2O,0.6~1.2 g/L NaBH4,55~65 g/L Na2C4H4O6 * 2H2O,12~16 g/L NH4Cl,1~2 g/L稳定剂,0.8~1.2 g/L La,θ 50~80 ℃,pH 14,负载因子 0.4~0.8 dm2/L.在此基础上,研究了La对沉积速度的影响,结果表明,La能提高Co-Ni-B镀液稳定性、沉积速度,改善镀层表面质量.在一定范围内,La的加入量越多,效果越明显;La的适宜加入量为0.8 g/L.同时探讨了主盐浓度、还原剂浓度、络合剂浓度、缓冲剂浓度对沉积速度的影响.

参考文献

[1] 曾跃;姚素薇.电镀磁性镀层[M].天津:天津大学出版社,1999:27-152.
[2] 安茂忠;张景双 .电镀化学镀在磁记录介质薄膜制备中的应用[J].电子工艺技术,1997,18(01):26-33.
[3] 宣天鹏,黄芹华,章磊.含铈化学镀 Co-Ni-B 合金镀覆工艺的研究[J].稀土,2003(02):37-40,44.
[4] 章磊,宣天硼,黄芹华.稀土元素对钴-镍-硼合金化学沉积的影响[J].电镀与涂饰,2002(03):20-23.
[5] 杜挺 .稀土元素在金属材料中的一些物理化学作用[J].金属学报,1997,33(01):69-76.
[6] 李荻.电化学原理[M].北京:北京航空航天大学出版社,1998:163.
[7] 查全性.电极过程动力学导论[M].北京:科学出版社,1976
[8] 姜晓霞.化学镀理论及实践[M].北京:国防工业出版社,2000:30-216.
[9] 宣天鹏,章磊,黄芹华.稀土铈对化学沉积Co-Ni-B合金镀层结构和性能的影响[J].稀有金属,2003(03):399-402.
[10] Osaka T .Co-B based soft magnetic films produced by electroless deposition[J].Journal of the Electrochemical Society,1992,139(05):985.
[11] Sankara Narayanan;S Selvakumar;A Stephen .Electroless Ni-Co-P ternary alloy deposits:preparat ion and characterics[J].Surface and Coatings Technology,2003,172:298-307.
[12] SUDARSHAN T S;范玉殿.表面改性技术工程师指南[M].北京:清华大学出版社,1992:365.
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