化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究

电镀与涂饰 , 2004, 23(5): 1-5. doi: 10.3969/j.issn.1004-227X.2004.05.001

化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究

舒霞 ^1, , 吴玉程 ^2, , 张勇 ^3, , 郑玉春 ^4, , 王文芳 ^5, , 黄新民 ^6, , 李广海 ^7,

1.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009

2.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009;中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031

3.中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031

4.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009

5.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009

6.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009

7.中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031

基金项目: 安徽省自然科学基金(00046403) 合肥工业大学校科研和教改项目

关键词：钴磷合金 , 化学沉积 , 纳米晶 , 沉积速率

Study of nanocrystalline Co-P alloy electroless deposition and its influencing factors on deposition rate

化学沉积可得到均匀、致密的纳米晶薄膜,是一种较为理想的纳米晶制备方法.采用正交实验优化了化学沉积纳米晶钴磷合金的工艺配方,研究了正交实验5因素如硫酸钴、柠檬酸三钠、硼酸、次磷酸钠和温度及负载因子、沉积时间对沉积速度的影响.研究获得的优化工艺配方和参数为:0.06～0.12 mol/L CoSO4·7H2O,0.40～0.55 mol/L NaH2PO2·H2O,0.15～0.3 mol/L Na3C6H5O7·2H2O,0.3～0.6 mol/L H3BO3,50～80 ℃,负载因子0.4～0.8 dm2/L.

参考文献

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[6]	Koiwa I;Matsubara H;Osaka T et al.The structure of electroless cobalt alloy-films for perpendicular magnetic recording media[J].Journal of the Electrochemical Society,1986,133(04):685-689.
[7]	瞿金坤;黄子勋.化学镀镍[M].北京:北京航空学院,1987:32.
[8]	吴玉程.化学沉积钴基合金纳米晶显微组织与性能[J].待发表

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