介绍了多层印制线路板内层铜墙表面的黑氧化技术.研究了黑化液组分的体积分数、黑化处理时间及温度对黑化层厚度及撕裂强度的影响.还研究了黑化液组分体积分数对黑化层晶形的影响.
参考文献
[1] | Valayil .[P].Silvester US Patent:4512818 |
[2] | Landau;Adela .[P].US:4409037 |
[3] | Suzuki;Yoshihiro .[P].US Petent 4512818 |
[4] | 曾芳仔.优化层压工艺提高抗剥离强度[J].印制电路信息,1998(01):25. |
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