研究了用原子发射光谱法同时测定锇中21个杂质元素的分析方法.基于锇易与氧反应生成四氧化锇气体挥发的特性,采用加热挥发分离锇基体、碳粉捕集杂质元素、直流电弧激发摄谱和计算机控制测光仪进行自动测定.实验考查了样品处理、测定条件和方法准确度.在660℃下恒温1.5h可使锇基体挥发至＜0.1%,而杂质元素不损失.测定了3个杂质含量不同的校样,测定百分误差均≤25%.方法简便快速,测定结果令人满意.
参考文献
| [1] | 高天寿;余从周;冼长云.化学光谱法测定纯锇中的微量杂质元素[A].,1984 |
| [2] | 汉光耀;秦永芳.发射光谱法测定锇中杂质元素[J].光谱学与光谱分析,1988(02):51-52. |
| [3] | 高天寿;张炜 .ICP-AES法测定纯锇中的微量杂质元素[J].光谱实验室,1993,10(01):15-20. |
| [4] | 谭庆麟;阙振寰.铂族金属性质、冶金、材料、应用[M].北京:冶金工业出版社,1990:33-38. |
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