采用X射线衍射和卢瑟福背散射技术,研究了Cr离子注入铜薄膜对氧化物形成及其演变的影响.结果表明,离子注入改变了薄膜的氧化行为和氧化物结构.离子注入阻碍Cu原子的扩散,并抑制Cu2O向CuO转变,使得铜薄膜表面的氧化物具有层状结构.探讨了注入前后薄膜表面氧化物形成的机理.
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