欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

用金属蒸汽真空弧离子源在Al2O3陶瓷表面注入Ni2+离子,然后进行化学镀铜.用扫描电镜分析了离子注入辅助Al2O3陶瓷表面化学镀Cu镀层和基体的结合行为.结果表明:镀层呈层状结构生长,镀层与基体存在紧密结合、疏松结合和微孔结合三种形式,紧密结合区镀层像锯齿一样"嵌入"陶瓷基体.镀层与基体的结合机理为机械结合和冶金结合共同作用.

参考文献

[1] 尹衍升;张景德.氧化铝陶瓷及其复合材料[M].北京:化学工业出版社,2001:1-68.
[2] 李丽波,安茂忠,武高辉.陶瓷表面的化学镀[J].电镀与环保,2004(05):19-22.
[3] 宋秀峰,傅仁利,何洪,沈源,韩艳春.氧化铝陶瓷基板化学镀铜金属化及镀层结构[J].电子元件与材料,2007(02):40-42.
[4] 姜晓霞;沈伟.化学镀理论及实践[M].北京:国防工业出版社,2000:1-25.
[5] Bhansali S.;Sood DK. .SELECTIVE SEEDING OF COPPER FILMS ON POLYIMIDE-PATTERNED SILICON SUBSTRATE, USING ION IMPLANTATION[J].Sensors and Actuators, A. Physical,1996(1/3):126-131.
[6] Bhansali S;Ksood D .A novel technique for fabrication of metallic structures on polyimide by selective electroless copper plating using ion implantation[J].Thin Solid Films,1995,270:489-492.
[7] Lin JH.;Chiu SY.;Lee TL.;Tsai CM.;Chen PH.;Lin CC.;Feng MS.;Kou CS.;Shih HC.;Tsai YY. .Palladium seeding on the tantalum-insulated silicon oxide film by plasma immersion ion implantation for the growth of electroless Copper[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2000(0):592-596.
[8] WANG Xiao-hong;SUN Zhi;ZHU Xin .Research on Surface Modification of 96 Al_2O_3 by Ni Ion Implantation[J].Journal of China University of Mining and Technology,2006(3):261-265.
[9] 祝馨,孙智.离子注入陶瓷化学镀Cu工艺的优化[J].表面技术,2006(02):46-47,50.
[10] 王国梅;曲祖元 .镍离子注入氧化铝陶瓷的表面结构研究[J].硅酸盐学报,1994,22(06):539-544.
[11] 卫中山,王珉,左敦稳,李亮.La+,Mo+注入TC4合金表面粗糙度变化研究[J].特种铸造及有色合金,2003(04):1-3.
[12] Ohno L .Electrochemistry of electroless plating[J].Materials Science and Engineering,1991,A146:33-49.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%