钕铁硼化学镀Ni-P合金层的孔隙率与镀层的耐蚀性有很大的关系.以铁氰化钾为指示剂采用贴滤纸法测定钕铁硼化学镀Ni-P合金层的孔隙率,研究了镀液pH、温度、主盐、还原剂及络合剂浓度对化学镀Ni-P合金层孔隙率的影响,并确定最佳的镀液参数,通过扫描电镜验证实验结果.结果表明:孔隙率随着镀液组成、pH及温度的增加而先减小后增加.
参考文献
[1] | 李庆余;杨建红;陈建军 等.钕-铁-硼磁体化学镀光亮镍磷[J].中南大学学报,1999,30(06):568-569. |
[2] | 王瑞祥,王蓓蕾.钕铁硼基体上的电镀[J].电镀与涂饰,2000(05):18-20. |
[3] | 欧萌,张蕾.化学镀镍铜磷在钕铁硼表面处理上的应用研究[J].电子工艺技术,2001(04):157-160. |
[4] | 俞宏英,孙冬柏,黄锦滨,杨德钧.化学镀镍磷合金镀层孔隙率的电化学评价[J].电化学,2000(03):335-340. |
[5] | 俞宏英 .化学镀镍磷合金镀层在硝酸溶液中的腐蚀机理[D].北京科技大学,1999. |
[6] | 徐瑞东,郭忠诚,薛方勤,王军丽.化学镀锡层孔隙率研究[J].电镀与精饰,2003(02):27-29. |
[7] | 赵芳霞,刘琛,张振忠,丘泰.Ni-P和Ni-Cu-P化学镀层对比研究[J].材料保护,2006(03):65-68. |
[8] | 沈桂琴,于荣莉,姬凌峰.Ti-6Al-4V合金表面化学镀Ni-P层的显微组织及性能研究[J].稀有金属材料与工程,1998(02):107-111. |
[9] | 秦襄培,刘洪涛,李健,顾卡丽.图像技术在镀层孔隙率测定上的应用[J].材料保护,2005(09):70-72. |
[10] | 李宁.化学镀实用技术[M].北京:化学工业出版社,2003:66-98. |
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