用光电子能谱(XPS和AES)研究了配合物膜层的组成、结构和性能,以及在金属表面的成键特征和波谱变化.结果表明,多数硫代酰胺化合物分子中的硫代酰胺基团在参与配位反应时发生了去质子化,N,S均发生了配位,另有部分硫代酰胺基团未去质子化,直接与Zn2+配位.从配合物膜的AES深度剥蚀曲线的组成恒定区求得膜层由Zn,N,C,S和O元素组成,膜层的厚度在60～200 nm之间.
参考文献
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