采用循环伏安、恒电流阶跃和稳态极化等电化学研究方法和紫外分光度法,研究了Cr3+电沉积机理,结果表明其沉积过程分2步进行.计算得出Cr3+2步放电的表观活化能为34.9 kJ/mol和19.77 kJ/mol,表明Cr3+还原过程受电化学反应控制;初步拟定了甘氨酸作配体氯化物水溶液体系三价铬还原机理.
参考文献
| [1] | Mandich N V .Chemistry & Theory of Chromium Deposition:part I--Chemistry Plating[J].Plating &Surface Finishing,1997,84(05):108-114. |
| [2] | Protsenko V S;Butyrina T E;Danilov F L .Applying a Theory of Generalized Variables to Electrochemical Kinetics:Lnterpreting the Results of Studying Chromium Deposition from Cr(III)Baths[J].Protection of Metals,2007,43(04):429-438. |
| [3] | 屠振密,郑剑,李宁,李永彦.三价铬电镀铬现状及发展趋势[J].表面技术,2007(05):59-63,87. |
| [4] | 贾铮;戴长松;陈玲.电化学测量方法[M].北京:化学工业出版社,2006 |
| [5] | 何新快 .羧酸盐-尿素体系脉冲电沉积铬及铬合金与铁-镍-铬镀层着黑色研究[D].中南大学,2006. |
| [6] | 邓姝皓 .脉冲电沉积纳米晶铬-镍-铁合金工艺及其基础理论研究[D].中南大学,2003. |
| [7] | 李国华,赖奂汶,黄清安.三价铬镀液中配体的作用[J].材料保护,2005(12):44-46. |
| [8] | Howarth J N;Pletcher D.The Electrodeposition of Chromium from Chromium(ш)Sclutions a Study Using Microelectrodes[J].Journal of Applied Electrochemistry,1998(18):644-652. |
| [9] | EL-shahawi M S .Chromium(Ⅲ)Complexes of Naturally Occurring Ligands[J].Spectrochimica Acta,1995,51(02):161-170. |
| [10] | 张新;李惠东;段淑珍 等.三价铬离子在电沉积过程中的形态[J].北京科技大学学报,1995,17(06):580-583. |
| [11] | 舒绪刚 .纳米ZrO2/Cr复合镀层的制备、表征及机理研究[D].广州:广东工业大学,2009. |
| [12] | Surviliene S;Jasulaitiene V;Niviskiene O.Effect of Hydrazine and Hydroxylaminophosphateon Chrome Plating from Trivalent Electrlytes[J].Applied Surface Science,2007(01):1-16. |
| [13] | 舒绪刚,黄慧民,何湘柱,傅维勤,赵国鹏.纳米ZrO2/Cr复合电沉积的工艺条件[J].腐蚀与防护,2009(11):813-815,821. |
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