在真空条件下采用氢气刻蚀二氧化硅形成硅膜,用微波等离子化学气相沉积法在玻璃上生长金刚石薄膜,并用X射线衍射、Raman光谱和光电子能谱对石英玻璃上的金刚石薄膜进行分析,指出其形成中间层SiO-2/Si/SiC/C(金刚石)是在石英玻璃上生长金刚石薄膜的关键.
参考文献
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| [5] | 郭忠诚;王万录;廖克俊 等.衬底负偏压热灯丝CVD金刚石薄膜在锥体上核化的研究[J].重庆邮电学院学报(自然科学版),1999,11(04):20-23. |
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