采用X射线光电子能谱(XPS)对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析.研究结果表明,Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜,而钨的氧化作用远大于镍,Ni-W合金镀层中W含量的提高对耐蚀性起决定作用.
参考文献
[1] | Sulitonu N P .A Suitable Method for Obtaining Ni-W Thin Materials Film[J].Materials Letters,1992,14(10):295. |
[2] | 王国斌 .诱导共析合金镀膜Ni-W的研究[J].表面技术,1991,20(06):171. |
[3] | 卢维昌.电镀镍-钨非晶态合金初探[J].材料保护,1994(07):21. |
[4] | Wang Z;Dong H Y;Yang D Z.The Structure and Properties of Electrodeposited Ni-W and Ni-W-Al2O3[A].Wuhan:Materials Protection Publishing House,1999:184-186. |
[5] | 丁英,罗凤金.镍钨合金电镀工艺初探[J].材料保护,1990(03):36. |
[6] | 朱立群 .电沉积Ni-W非晶态合金复合镀层研究[J].功能材料,1999,30(01):85-87. |
[7] | 渡边撤;丁维平;李荻.非晶态电镀方法及应用[M].北京:北京航空航天大学出版社,1992 |
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