磁控溅射制备不锈钢薄膜研究

1.江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江,212013

2.江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江,212013

3.江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江,212013

Fabrication of Thin Film on Stainless Steel Using Magnetron Sputtering Technique

研究了磁控溅射镀膜工艺参数中溅射功率、溅射时间以及真空度等对不锈钢薄膜制备的影响,通过对获得的不锈钢薄膜层进行金相分析与其他性能测试发现:试验中溅射功率为100W、溅射时间为2h、真空度为0.08Pa、氩气压力为1.5MPa的条件下制得的薄膜性能最佳.

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