Φ3英寸双面超导薄膜Jc均匀性测量

低温物理学报 , 2003, 25(z1): 234-237. doi: 10.3969/j.issn.1000-3258.2003.z1.051

Φ3英寸双面超导薄膜Jc均匀性测量

王小平 ^1, , 王霈文 ^2, , 李季 ^3, , 李弢 ^4, , 齐善学 ^5, , 华志强 ^6, , 古宏伟 ^7,

1.北京有色金属研究总院,北京,100088

2.北京有色金属研究总院,北京,100088

3.北京有色金属研究总院,北京,100088

4.北京有色金属研究总院,北京,100088

5.北京有色金属研究总院,北京,100088

6.北京有色金属研究总院,北京,100088

7.北京有色金属研究总院,北京,100088

STUDY OF THE Jc HOMOGENEITY OF THE Φ3 INCH DOUBLE-SIDES SUPERCONDUCTING THIN FILMS

临界电流密度Jc是评价超导薄膜质量的重要参数之一.采用Jc测量装置可以准确、快速、无损检测Φ2～3英寸双面膜的Jc均匀性.该装置是利用高温超导薄膜的超导转变对线圈内感应电压产生的变化这一原理,测量线圈由初级和次级组成.所用信号频率为20kHz.次级信号在同样频率下由锁相放大器检测.测量过程全部由计算机控制.对于超导微波滤波器应用所要求的高质量Φ2～3英寸双面超导薄膜材料,必须具有高的Jc和低的Rs值.采用该装置测量超导薄膜的Jc均匀性,与Rs对应关系进行分析,将有助于超导薄膜的质量控制.

参考文献

[1]	M Lorenz;D Natusch;H B rner;H Hochmuth and K Unger.Proc.Eur.Conf.on Applied Superconductivity EUCAS′93,Gttingen[C].Germany
[2]	J J Wnuk;P J T Eggenkamp;P J E van der Linden;H J L van der Steen .[J].Review of Scientific Instruments,1991,62:1813.
[3]	M Lorenz;H Hochmuch;H Brner;D Natusch and K Kreher,D.K.Fork and J.M.P.hillips.Materials Research Society Symposium Proceedings Volume 341[M].MRS,Pittsburgh,1994:189.
[4]	M Lorenz;H Hochmuch;D Natusch;H Brner,G Lippold,K Kreher and W Schmitz .[J].Applied Physics Letters,1996(68):3332.

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%

材料期刊网

Φ3英寸双面超导薄膜Jc均匀性测量

STUDY OF THE Jc HOMOGENEITY OF THE Φ3 INCH DOUBLE-SIDES SUPERCONDUCTING THIN FILMS

参考文献