Tl-2212超导薄膜的制备

低温物理学报 , 2003, 25(z1): 68-71. doi: 10.3969/j.issn.1000-3258.2003.z1.015

Tl-2212超导薄膜的制备

胡芳仁 ^1, , 伊长虹 ^2, , 赵新杰 ^3, , 雷冲 ^4, , 陈莺飞 ^5, , 郑东宁 ^6,

1.中国科学院物理研究所超导国家重点实验室,北京,100080

2.中国科学院物理研究所超导国家重点实验室,北京,100080;山东师范大学,济南,250014

3.中国科学院物理研究所超导国家重点实验室,北京,100080

4.中国科学院物理研究所超导国家重点实验室,北京,100080

5.中国科学院物理研究所超导国家重点实验室,北京,100080

6.中国科学院物理研究所超导国家重点实验室,北京,100080

基金项目: 国家自然科学基金(50202017) 中国科学院军工项目

关键词： Tl-2212超导薄膜 , 激光脉冲沉积

PREPARATION OF Tl-2212 SUPERCONDUCTIVE FILM

以铝酸镧晶体为基片,采用两步法制备Tl-2212超导薄膜,包括在低温(150℃)下利用激光脉冲沉积(PLD)工艺沉淀Ba2CaCu2Ox非晶前驱体薄膜和在高温(740～830℃)下前驱体薄膜的铊化结晶、取向生长过程.实验结果表明所制得的膜的相组成为Tl-2212,表面存在大量均匀分布的成分为Tl2Ba2CaCu2Ox的亚微米颗粒.其零电阻温度为101K.薄膜与基片之间界面清晰,没有过渡层,薄膜具有良好的c取向外延条纹.

参考文献

[1]	H Schneidewind;M Manzel;G Bruchlos;K kirsh .Supercon Sci Technol[J].Superconductor Science and Technology,2001(14):200.
[2]	李林.高温超导薄膜无源微波器件的应用[J].物理,2001(07):392-397.
[3]	Lichtenberg C L;Price G E;Nisenoff M .[R].AIAA-96-1058576
[4]	Maeda H;Takano Y;Fukutomi M .[J].Japanese Journal of Applied Physics,1990(27):L209.
[5]	Wu M Kahburn J R;TC T .[J].Physical Review Letters,1987,58:908.

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