YBCO超导薄膜的等离子体氟化研究

低温物理学报 , 2000, 22(6): 449-453. doi: 10.3969/j.issn.1000-3258.2000.06.009

YBCO超导薄膜的等离子体氟化研究

傅泽禄 ^1, , 顾大振 ^2, , 刘雷 ^3, , 赵恩海 ^4, , 康琳 ^5, , 冯一军 ^6, , 吉争鸣 ^7, , 王晓书 ^8, , 尹晓波 ^9, , 杨森祖 ^10,

1.南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

2.南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

3.南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

4.南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

5.南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

6.南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

7.南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

8.南京大学现代分析中心,南京,210093

9.南京大学物理系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

10.南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京,210093

基金项目: 科技部资助项目(863-CD070202) 科技部科研项目(G19990646)

A STUDY OF INFLUENCE OF PLASMA FLUORINATION ON YBCO THIN FILM

本文利用CF4气体,对YBCO薄膜表面进行可控的rf等离子体氟化处理.AFM与XPS 的分析结果表明:适当的氟化所起的作用主要为化学反应作用.氟化可造成Y(3d)与O(1 s)诸元素的本征峰相对强度减少,甚至消失;对Ba(3d),Ba(4d)和其它元素也有影响.本文的研究为利用等离子体氟化YBCO膜形成弱化势垒层提供了初步结果.

参考文献

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