HB-GaAs (100) 片要偏离生长截面54.7°~60°切割(〈100〉和〈111〉之间的夹角是54.7°).如果籽晶方向与〈100〉之间的夹角少于54.7°,称为反偏籽晶.而采用大于54.7°角生长的单晶切割比较困难,尤其是厚度小于300 μm的晶片.为了减少切割难度,可生长反偏籽晶的单晶,但要保证单晶能割出Φ2″(100)圆片,必须增加单晶锭的截面积.由于GaAs的热导率小,大截面单晶生长要困难得多.通过改变固液截面附近的加热元件结构,在特定方向加强了散热,延伸了温度梯度的线性范围,使用反偏籽晶,成功地生长了Φ2″ HB-GaAs单晶.和正偏籽晶单晶相比,这些单晶锭的切割破损率减少了24%,每100 mm长度出片数增加了30%.
参考文献
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[2] | Dobroka Edmund .[J].Journal of Crystal Growth,1990,104:428. |
[3] | Young Gregory L;McDonald Karen A;Palazogl Ahmet .[J].Journal of Crystal Growth,1997,171:361. |
[4] | Liang MC.;Lan CW. .THREE-DIMENSIONAL THERMOCAPILLARY AND BUOYANCY CONVECTIONS AND INTERFACE SHAPE IN HORIZONTAL BRIDGMAN CRYSTAL GROWTH[J].Journal of Crystal Growth,1997(3/4):587-596. |
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