用大直径中空柱状阴极直流磁控溅射装置, 在Φ51 mm LaAlO3衬底上制备了YBCO薄膜. 利用X射线衍射、电子通道花样、Φ扫描、扫描电镜对薄膜进行了分析. 在51 mm直径范围内薄膜的零电阻温度Tc为88~90 K.
参考文献
[1] | Greer A .[J].Journal of Vacuum Science and Technology A-Vacuum Surfaces and Films,1992,10:1821. |
[2] | Muenchausen R E;Cooke D W;Fotyn S R et al.[J].Physica C,1991,190:46. |
[3] | Truman J K;White W R;Ballentice P H et al.[J].IEEE Trans Appl Suppercon,1993,3:1697. |
[4] | Cole B F;Liang G C;Newman N et al.[J].Applied Physics Letters,1992,61:1727. |
[5] | Busch H;Fink A;Muller A .[J].Journal of Applied Physics,1991,70:2449. |
[6] | Berverich P;Vtz B;Prusseit W et al.[J].Physica C,1994,219:497. |
[7] | Kikuchi K;Yuhya S;Shiohara Y .[J].Journal of Materials Science Letters,1993,12:1392. |
[8] | 王小平 等.[J].稀有金属,1994,18(06):401. |
[9] | 王小平 等.[J].低温物理学报,1995,17(ZK):352. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%