在离子束辅助激光制备取向薄膜的物理机制基础上.利用计算机模拟了织构薄膜生长的物理过程结果表明,织构薄膜的质量直接与不同取向晶粒被辅助粒子束溅射掉的几率相关,这在实验中表现为与辅助离子束入射方向、离子束能量、薄膜材料种类等因素有关
参考文献
[1] | J.D.Klein, A.Yen, S.L.Clauson, Appl. Phys. Lett., 56, 394(1990) |
[2] | X.T.Huang, Y.Q.Wang, Q.L.Wang, Q.M.Chen, Physica. Status. Solidi., A174, R11(1999) |
[3] | X.T.Huang, Y.Q.Wang, Q.L.Wang, Q.M.Chen, J.Phys.:Condensed Matter, 12, 761(2000) |
[4] | X.D.Wu, S.R.Foltyn, P.Arendt, IEEE transactions on applied superconductivity, 5, 2001(1995) |
[5] | N.Sonnenberg, A.S.Longo, M.J.Cima, B.P. Chang, K.G.Ressker, P.C.McIntrye, Y.P. Liu, J.Appl. Phys., 74,1027(1993) |
[6] | R.M.Bradley, J.M.E.Harper, D.A.Smith, Films desposited with ion beam asisstance, Appl. Phys., 60,4160(1986) |
[7] | S.Otsubo, T.Minamikawa, Y.Yonezawa, A.Norilmoto, T.Shimuzu, Jpn.J.Appl. Phys., 29, L73(1990) |
[8] | R.K.Singh, D.Bhattacharya, J.Narayan, Appl. Phys. Lett., 57, 2022(1990) |
[9] | D.Dimos, P. Chandhari, J.Manhart, F.K.LeGoues, Phys. Rev. Lett., 61, 219(1998) |
[10] | .D.Dimos, P. Chandhari, J.Manhart, Phys.Rev., B41, 4038(1990) |
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