化学还原法制备六方B-C-N化合物

无机材料学报, 2008, 23(5): 1067-1069. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.05.041

化学还原法制备六方B-C-N化合物

孙广 ^1, , 吴庆华 ^2, , 胡前库 ^3, , 于栋利 ^4,

1.河南理工大学,材料科学与工程学院,焦作,454000

2.河南理工大学,材料科学与工程学院,焦作,454000

3.河南理工大学,材料科学与工程学院,焦作,454000

4.燕山大学,亚稳材料制备技术与科学国家重点实验实,秦皇岛,066004

基金项目: 国家自然科学基金(50532020) 国家重点基础研究发展计划(973计划)(2005CB724400)

关键词：六方 , B-C-N , 化合物 , 化学还原法合成 , XRD , 电子能量损失谱

Chemical Reduction Synthesis of Hexagonal B-C-N Compound

采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM),选区电子衍射(SAED),电子能量损失谱(EELS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)对合成的样品进行了表征.分析结果表明,所合成的B-C-N化合物具有六方多晶结构,其成分为B0.5C0.07N0.43.

参考文献

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化学还原法制备六方B-C-N化合物

Chemical Reduction Synthesis of Hexagonal B-C-N Compound

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