后接枝法合成氨丙基修饰的周期性介孔氧化硅材料

无机材料学报, 2008, 23(2): 408-412. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.02.042

后接枝法合成氨丙基修饰的周期性介孔氧化硅材料

钟振兴 ^1, , 韦奇 ^2, , 王飞 ^3, , 李群艳 ^4, , 聂祚仁 ^5, , 邹景霞 ^6,

1.北京工业大学,材料科学与工程学院,北京100022

2.北京工业大学,材料科学与工程学院,北京100022

3.北京工业大学,材料科学与工程学院,北京100022

4.北京工业大学,材料科学与工程学院,北京100022

5.北京工业大学,材料科学与工程学院,北京100022

6.北京工业大学,材料科学与工程学院,北京100022

基金项目: 国家自然科学基金(50525413) 北京市教委科技基金(KM200610005016) 国家自然科学基金(50502002)

关键词： PMOs , 表面修饰 , 氨丙基基团 , 介孔结构

Synthesis of Aminopropyl-functionalized Periodic Mesoporous Organosilica by Post-grafting Method

以三氯甲烷为溶剂,氨丙基三甲氧基硅烷(APTMS)为修饰剂通过后接枝法对周期性介孔氧化硅材料(PMOS)进行修饰.通过固态NMR,氮气吸附、元素分析和UV-vis吸光度测试等手段来表征材料.结果表明,氨丙基基团通过共价连接的方式成功修饰到PMOs材料.尽管随着APTMS修饰量的增加,比表面积、孔容和孔径都呈下降趋势,但经25%APTMS修饰的PMOs材料依然具有良好的介孔结构,其表面积为604m2·g-1,孔容为0.62cm3·g-1,孔径狭窄分布在4.5～5.0nm之间.修饰后的PMOs对氯金酸有明显的吸附作用.

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