射频磁控溅射Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜表层的XPS研究

无机材料学报, 2006, 21(3): 713-718. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2006.03.032

射频磁控溅射Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜表层的XPS研究

唐章东 ^1, , 杨传仁 ^2, , 廖家轩 ^3, , 张继华 ^4, , 冷文建 ^5, , 陈宏伟 ^6, , 符春林 ^7,

1.电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054

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7.电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054

基金项目: 科技部科研项目

关键词： BST , 表层 , 晶化 , 钙钛矿结构 , XPS

XPS Study of the Surface Layer of Ba0.6Sr0.4TiO3 Thin Films Deposited by Radio Frequency Magnetron Sputtering

用射频磁控溅射在Pt/Ti/SiO2/Si基体上沉积Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,用X射线光电子能谱(XPS)研究BST薄膜表层在常规晶化和快速晶化条件下的结构特征.结果表明,常规晶化时,BST薄膜表层约3～5nm厚度内含有非钙钛矿结构的BST,随着温度的升高该厚度增加;快速晶化时,该厚度减薄至1nm内,随着温度的升高没有明显增加.元素的化学态分析结果表明,非钙钛矿结构的BST并非来自薄膜表面吸附的CO和CO2等污染物,而与表面吸附的其他元素(如吸附氧)对表层结构的影响有关.GXRD和AFM表明,致密的表面结构能有效的阻止表面吸附元素在BST膜体中的扩散,从而减薄含非钙钛矿结构层的厚度.

参考文献

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