采用阴极微弧电沉积在钛表面生成了厚度达100μm的氧化铝涂层,研究了不同电压下涂层的结构和组成,分析了涂层的生长规律和形成过程.结果表明:阴极微弧电沉积过程包括火花前、微弧和局部弧光三个阶段,期间伴随有Al(NO3)3的离解、Al(OH)3的沉积与高温烧结等反应,微弧区产生的高温高压是形成Al2O3涂层的关键.涂层主要由γ-Al2O3和α-Al2O3组成,随电压升高,α-Al2O3的含量逐渐增加,在400V时其含量达76%.
参考文献
[1] | 张玉梅,郭天文,李佐臣.生物医学工程学杂志,2000,17(2):206-208. |
[2] | 程宇航.功能材料,1999,30(5):467-469. |
[3] | White S E. Clin Orthop, 1994, 309: 176-180. |
[4] | Friedman R J. J Bone Joint Surg, 1993, 75-A: 1086-1091. |
[5] | 王文良,吴岳嵩,张铁良.生物医学工程与临床,2000,4(1):6-10. |
[6] | 何业东,杨晓战,王德仁.一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法.CN Patent,01118541,2001-12-19. |
[7] | 谢希文,过梅丽.材料工程基础,第1版.北京:北京航空航天大学出版社,1999.125-126. |
[8] | 李均明.铝合金微弧氧化陶瓷层生长过程及绝缘性能的研究.西安理工大学硕士学位论文.2002.25-29. |
[9] | 薛文斌,来永春,邓志威,等.材料科学与工艺,1999,7(2):18-20. |
[10] | 王亚明,雷廷权,蒋百灵,等.稀有金属材料与工程,2003,32(12):1041-1044. |
[11] | 憨勇,徐可为(HAN Yong,et al).无机材料学报(Journal ofInorganic Materials),2001,16(5):951-956. |
[12] | ZHANG W, GLASSER F P. J. Mater. Sci., 1993, 28 (4): 1129-1135. |
[13] | Livage J, Chatry M, Henry M, et al. Proc. MRS Symp, 1992, 271: 201-206. |
[14] | Chaim R, Zhitomirsky I, Gal-or L, et al. J. Mater Sci., 1997, 32: 389-400. |
[15] | 杨晓战,何业东,王德仁,等.科学通报,2002,47(7):525-528. |
[16] | Yerokhin A L, Nie X, Leyland A, et al. Surface and Coating Technology, 1999, 122: 73-93. |
[17] | Yang X Z, HE Y D, WANG D R, et al. Electrochemical and Solid-State Letters, 2002, 5 (3): C33-C34. |
[18] | Yen S K, Huang T Y. Materials Chemistry and Physics, 1998, 56: 214-221. |
[19] | Chaim R, Stark G, Gal-or L, et al. J. Mater Sci., 1994, 29: 6241-6248. |
[20] | Aries L. J. Applied Electrochemistry, 1994, 24: 554-558. |
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