欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

用Ar+离子束多靶溅射沉积技术在单晶硅Si(100)上顺序沉积了TiO2、BaCO3、SrCO3叠层,并经后期低温扩散和高温晶化两步热处理过程制备了BaxSr1-xTiO3薄膜.用俄歇扫描电子能谱(AES)对其低温扩散效应(温度、时效、沉积顺序)进行了研究.实验结果表明:在低温段长时间保温或在中温段短时间保温都有利于各沉积组元充分扩散,扩散均匀的混合膜层经高温晶化(900℃)能形成多晶BaxSr1-xTiO3薄膜.

参考文献

[1] Xiang X D, Sun X D, et al. Science, 1995, 268: 1738-1740.
[2] Xiang X D. Annu. Rev. Mater. Sci., 1999, 29: 149-158.
[3] Koinuma H, Aiyer H N, et al. Science and Technology of Advanced Materials, 2000, 1: 1-10.
[4] 高琛,项晓东,吴自勤.物理,1999,28(11):675-678.
[5] Zhu Xinhua, Xu Jie, et al. Journal of Materials Science, 1998, 33: 1023-1030.
[6] Hauyee chang, Xiang X D. Integrated Ferroelectrics, 2002, 28 (1-4): 113-125.
[7] Chang H, Takeuchi I, et al. Appl. Phys. Lett., 1999, 74 (8): 1165-1168.
[8] Chang H, Gao C, et al. Appl. Phys. Lett., 1998, 72 (17): 2185-2188.
[9] 黄昆原著,韩汝琦改编.固体物理学,第一版,高等教育出版社,1988.547.
[10] David V. Ragone; Thermodynamics and Kinetics of Materials, John Wiley & Sons. Inc., 1995.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%